Pantalon Horseware Newmarket taille mi haute grip genoux

Confort et Performance au Quotidien

Le Pantalon d'équitation taille mi-haute Horseware® Newmarket - Basanes Grip est conçu pour offrir un confort supérieur et des performances optimales à cheval comme à l’écurie. Fabriqué à partir d’un tissu extensible dans les quatre sens, il accompagne chaque mouvement avec fluidité tout en conservant une coupe flatteuse et ajustée.

Sa conception technique allie légèreté, respirabilité, et propriétés antibactériennes pour un port agréable toute la journée. Grâce à sa capacité à évacuer l’humidité et à sa protection solaire UPF 50+, ce pantalon est le choix idéal pour les cavaliers exigeants.

Adhérence et Maintien Optimaux

Les basanes grip en silicone positionnées au niveau des genoux assurent une excellente adhérence en selle, pour une meilleure stabilité et un contrôle accru lors de vos séances d’équitation. Sa taille mi-haute, dotée d’une ceinture large et lisse, offre un maintien sûr et confortable sans compromettre la liberté de mouvement.

Technicité du Tissu

• Extensible dans les 4 sens : Liberté de mouvement maximale pour accompagner chaque geste.
• Respirant : Favorise une bonne aération pour réguler la température corporelle.
• Évacuation de l’humidité : Garde la peau sèche même pendant les efforts intenses.
• Effet antibactérien : Contribue à une hygiène optimale.
• Protection UV UPF 50+ : Protège efficacement contre les rayons nocifs du soleil.
• Tissu léger : Agréable à porter en toutes saisons.

Composition

• 89 % Polyester
• 11 % Spandex

Le mélange de polyester et de spandex garantit élasticité, tenue et durabilité du tissu, tout en assurant un confort optimal au quotidien.

Entretien

• Lavage en machine à 30°C, cycle délicat
• Laver à l’envers avec des couleurs similaires
• Ne pas utiliser d’eau de javel
• Ne pas sécher en machine
• Ne pas repasser
• Ne pas nettoyer à sec
• Séchage à l’air libre uniquement

Veuillez toujours vérifier l’étiquette d’entretien du produit pour des instructions spécifiques liées au modèle.